独自のミル分散技術⇒ナノ分散液開発
【IN PUT】
①独自開発の超微小ビーズによる「ソフト分散」
・シャープな粒度分布
・表面改質による安定分散
②長年の無機/有機融合技術
「分散添加剤」ノウハウの水平展開
【OUT PUT】
①1次ナノ粒子の単分散の実現
②長期保存・安定性（常温保存）の実現
③低コストー>適正価格での供給
【技術・製品の展開】～究極のうれしさの探求～
ナノサイズ無機フィラーの機能性応用⇒有機素材と無機素材の機能性融合
微細加工商品展開⇒化学市場、光学市場、電子機器市場
独自技術「超微小ビーズによるナノ分散」
①超微小ビーズ（15～50μm)による
⇒ナノ粒子の解砕～ナノの世界：1次粒子を壊さず、ナノ粒子をほぐす技術～
②ナノ粒子を凝集なく解砕⇒粒ぞろい！
＊シャープな粒度分布
③凝固しない（再凝集）
鼻薬の添加⇒固まらない！
＊長期保存
ナノソフト分散イメージ図
ナノ分散液の特徴
①分散性→長期保存・安定性（常温保存にて）
②低コンタミネーション
③低コスト→適正価格でのご提供
④多様な樹脂展開への対応 ～各種への溶媒ラインナップ～
ナノ分散液 機能性＆ラインナップ
| 品番 | DLZ- 001 | DLZ- 007 | DLZ- 003W | DZM-003 | DLB- 001-30TO40NAE | DLB- 004-30TO40NAE | DLT-003R-25I | DLAT- 001-30I | DLSB-001-30SNA16/17 | |
| 粒子 | ZrO2 | ZrO2 | BaTiO3 | TiO2 | ATO | SiO2（中空シリカ） | ||||
| 効果 / 展開 | 高屈折率 | 高屈折率 | 高屈折/ 高誘電 | 高屈折率 | 帯電防止 | 低屈折/低誘電 | ||||
| 溶媒 | MEK | IPA | 高屈折モノマー | MEK | PGMEA | PGMEA | MEK | MEK | ||
| 濃度 | 40% | 30% | 58% | 30% | 25% | 30% | 30％ | |||
| 備考 | 添加剤 低減品 | 溶媒脱媒 モノマー | D50:50~60nm Or D50=70~80nm | |||||||
新製品NDシリーズ：～分散剤レス品～
樹脂への影響を最小化するための分散剤レス品を開発！
【特徴】
①樹脂の成膜後、透明性及び機械特性を確保
②無機フィラーの機能を極大化
【新製品】◆ZrO2分散液：DLZ-001-30NDOFS・DLZ-001-30A6END
◆BTO分散液：DLB-001-20TONAEND
◆TiO2分散液：DLT-001R-25IND
◆中空シリカ分散液：DLSB-001-30SNA16ND/17ND
◆ATO分散液：DLAT-002-30IND
NDシリーズ：ラインナップ
| 品番 | DLZ-001-30A6END DLZ-001-30NDOFS | DLB-001-20TO40NAEND | DLT-001R-25IND | DLSB- 001-30SNA16ND/17ND | DLAT- 002-30IND |
| 粒子 | ZrO2 | BaTiO3 | TiO2 | SiO2 (中空シリカ） | ATO |
| 効果/ 展開 | 高屈折 | 高屈折/ 高誘電 | 高屈折 | 低屈折 | 帯電防止 |
| 溶媒 | MEK | MEK | MEK | MEK | MEK |
| 濃度 | 30% | 20% | 25% | 30% | 30% |
| 備考 | D50:50~60nm or 70～80nm |
ナノ分散処理サービスの流れ
| 技術相談 | 少量テスト | サンプル試作 | 量産 |
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| ナノ分散液の仕様 開発・製造スケジュールの決定 受託費用の見積 | 少量テストで、原料・分散条件・を決定。 少量サンプル提出。 | ビーズミル（ラボサイズ機）を用いて、サンプル試作 | ビーズミル（量産機）を用いて、量産試作。 → 本格量産。 |
| 納期目安：4WKS | 原料条件： 粉末、溶媒、分散剤、etc… 分散条件： メディア径、周速、分散時間etc… | 対応処理量：1㎏～5㎏/日 | 対応処理量： 150㎏/日の実績あり |